PN結 二極管 三極管 MOS管
導體:很容易導電的物體,如金、銀、銅、鐵等。
絕緣體:不容易導電或者完全不導電的物體,如塑料、橡膠、陶瓷、玻璃等。
半導體:導電性能介于導體和絕緣體之間的物質,如硅(Si)、鍺(Ge)、金屬氧化物等。硅和鍺是4價元素,原子的最外層軌道上有4個價電子。
N型半導體:在純凈半導體硅或鍺(4價)中摻入磷、砷等5價元素,由于這類元素的原子最外層有5個價電子,故在構成的共價鍵結構中,由于存在一個多余的價電子而產生大量自由電子,這種半導體主要靠自由電子導電,稱為電子半導體或N型半導體,其中自由電子為多數載流子,熱激發形成的空穴為少數載流子。
P型半導體:在純凈半導體硅或鍺(4價)中摻入硼、鋁等3價元素,由于這類元素的原子最外層只有3個價電子,故在構成的共價鍵結構中,由于缺少價電子而形成大量空穴,這類摻雜后的半導體其導電作用主要靠空穴運動,稱為空穴半導體或P型半導體,其中空穴為多數載流子,熱激發形成的自由電子是少數載流子。
PN結
PN結:將一塊半導體的一側摻雜成P型半導體,另一側摻雜成N型半導體,在兩種半導體的交界面處將形成一個特殊的薄層。
半導體中載流子有擴散運動和漂移運動兩種運動方式。載流子在電場作用下的定向運動稱為漂移運動。
在半導體中,如果載流子濃度分布不均勻,因為濃度差,載流子將會從濃度高的區域向濃度低的區域運動,這種運動稱為擴散
擴散與漂移達到動態平衡形成一定寬度的PN結,形成空間電荷區產生內電場
外加正向電壓-正向偏置
外加電場與內電場方向相反,內電場削弱,擴散運動大大超過漂移運動,N區電子不斷擴散到P區,P區空穴不斷擴散到N區,形成較大的正向電流,這時稱PN結處于低阻導通狀態。
PN 結加反向電壓(反向偏置)
電流方向相反,導通截止
晶體二極管
• 概念
一個PN結加上相應的電極引線并用管殼封裝起來,就構成了半導體二極管,簡稱二極管。符號用VD表示。
半導體二極管按其結構不同可分為點接觸型和面接觸型兩類。
點接觸型二極管PN結面積很小,結電容很小,多用于高頻檢波及脈沖數字電路中的開關元件。
面接觸型二極管PN結面積大,結電容也小,允許通過電流大,多用在低頻整流、檢波等電路中。
• 特性
正向特性(導通)
反向特性(截止)
反向擊穿
晶體三極管
概念
半導體三極管是由兩個背靠背的PN結構成的。重要特性是具有電流放大作用和開關作用,常見的有平面型和合金型兩類。在工作過程中,兩種載流子(電子和空穴)都參與導電,故又稱為雙極型晶體管,簡稱晶體管或三極管。
兩個PN結,把半導體分成三個區域(三區二結)。這三個區域的排列,可以是N-P-N,也可以是P-N-P。因此,雙極型三極管有兩種類型:NPN型和PNP型。
NPN型
PNP型
工作于放大狀態的半導體三極管
條件:
內部:發射區高摻雜,基區很薄,集電結面積大
外部:發射結正偏,集電結反偏
大量電子N2通過很薄的基極被集電極吸收,少量電子N1在基極與空穴復合。N2和N1的比例由三極管內部結構決定。在不考慮ICBO時:
IC/IB=N2/N1=β
MOS晶體管
概念
NMOS,指的是利用電子來傳導電性信號的金氧半晶體管。NMOS的電路符號如下圖,而其結構圖如左圖所示,是由負型摻雜形成的漏極與源極,與在氧化層上的閘極所構成。
PMOS,指的是利用空穴來傳導電性信號的金氧半導體。PMOS的電路符號如下圖,而其結構則如右圖所示,是由正型摻雜形成的漏極(drain)及源極(source),與閘極(gate)及閘極下面的氧化層所構成。
NMOS
N溝道增強型MOSFET的結構
取一塊P型半導體作為襯底,用B表示。
用氧化工藝生成一層SiO2 薄膜絕緣層。
然后用光刻工藝腐蝕出兩個孔。
擴散兩個高摻雜的N型區。從而形成兩個PN結。(綠色部分)
從N型區引出電極,一個是漏極D,一個是源極S。
在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G。
N溝道增強型MOSFET的符號如左圖所示。左面的一個襯底在內部與源極相連,右面的一個沒有連接,使用時需要在外部連接。
N溝道增強型MOSFET的工作原理
對N溝道增強型MOS場效應三極管的工作原理,分兩個方面進行討論,一是柵源電壓UGS對溝道會產生影響,二是漏源電壓UDS也會對溝道產生影響,從而對輸出電流,即漏極電流ID產生影響。
柵源電壓UGS的控制作用
先令漏源電壓UDS=0,加入柵源電壓UGS以后并不斷增加。UGS帶給柵極正電荷,會將正對SiO2層的表面下的襯底中的空穴推走,從而形成一層負離子層,即耗盡層,用綠色的區域表示。同時會在柵極下的表層感生一定的電子電荷,若電子數量較多,從而在漏源之間可形成導電溝道。溝道中的電子和P型襯底的多子導電性質相反,稱為反型層。此時若加上UDS ,就會有漏極電流ID產生。當UGS較小時,不能形成有效的溝道,盡管加有UDS ,也不能形成ID 。當增加UGS,使ID剛剛出現時,對應的UGS稱為開啟電壓,用UGS(th)或UT表示。
漏源電壓UDS的控制作用
設UGS>UGS(th),增加UDS,此時溝道的變化如下。
顯然漏源電壓會對溝道產生影響,因為源極和襯底相連接,所以加入UDS后, UDS將沿漏到源逐漸降落在溝道內,漏極和襯底之間反偏最大,PN結的寬度最大。所以加入UDS后,在漏源之間會形成一個傾斜的PN結區,從而影響溝道的導電性。
當UDS進一步增加時, ID會不斷增加,同時,漏端的耗盡層上移,會在漏端出現夾斷,這種狀態稱為預夾斷。
當UDS進一步增加時, 漏端的耗盡層向源極伸展,此時ID基本不再增加,增加的UDS基本上降落在夾斷區。
N溝道耗盡型MOSFET
N溝道耗盡型MOSFET的結構和符號如下圖所示,它是在柵極下方的SiO2絕緣層中摻入了一定量的正離子。所以當UGS=0時,這些正離子已經感生出電子形成導電溝道。于是,只要有漏源電壓,就有漏極電流存在。
當UGS=0時,對應的漏極電流用IDSS表示。當UGS>0時,將使ID進一步增加。UGS<0時,隨著UGS的減小漏極電流逐漸減小,直至ID=0。對應ID=0的UGS稱為夾斷電壓,用符號UGS(off)表示,有時也用UP表示。N溝道耗盡型MOSFET的轉移特性曲線如右上圖所示。
場效應管符號的說明
如果是P溝道,箭頭則向外
電話:18923864027(同微信)
QQ:709211280
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